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泰州品质雷尼绍测针代理商 服务至上「雅顿供」可在光学近场尺度范围内直接写入表面特征。从这些纳米尺寸孔径射出的光会严重发散高达几十纳米，因此必须精确控制掩模和基板之间的间隙，使其维持在几十纳米之内，这对于确保工艺性能至关重要。图4：近场扫描光刻设备图5：带蝴蝶结形孔的NSOL掩模（底视图）通过用激光依次扫过每个孔，可以直接在基板上构建图像。多轴压电平台用于相对于掩模定位基板。这些平台的位置编码器反馈需要保持在亚纳米级分辨率范围内，因此激光干涉仪型系统更适合进行更精细的调整。传统的高性能光栅可以用于粗调直线电机平台的换向。高精度运动平台的重要性光掩模运动平台是光刻设备的**技术之一，这些先进的运动平台使用包括音圈电机(VCM)在内的...
2021-03-15 -
江苏测试雷尼绍测针规格尺寸 诚信服务「雅顿供」
如图2所示。SLM压模组件是MEM（微机电系统）器件，具有数千个可控微型镜组，通过镜组的倾斜可使入射光在透镜焦平面中产生高对比度的明暗掩模图案。需要精确的运动控制来协调成像单元及其下方面积更大的基板运动平台。在这种情况下，基板沿着X轴移动，SLM单元沿着Y轴移动，如同打印头一样。两个平台均由空气轴承支撑，并由直线电机驱动。图3：带SLM成像单元的并行光刻系统在这类制造系统中，除了提供用于直线电机换向的数据之外，位置传感器反馈还有助于精确控制位置。为了达到FPD行业要求的对准精度，即<±2微米，编码器的分辨率要***小于1µm。高性能直线光栅和干涉测量激光尺适用于此类应用，如雷尼绍的VI...
2021-03-05